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20年前,Hiden在期刊《Physics Today》今日物理学杂志发布了HPR-80 腐蚀性气体分析质谱仪,初期主要应用于半导体行业的特气检测,如毒性气体AsH3、B2H6、PH3等,强腐蚀性气体如如HCI、HF、CIF3等,强氧化性气体如CIF3、NF3等。
20年来,Hiden在这一细分领域具有强大的产品力,针对不同程度的腐蚀气体分析,提供不同的解决方案。
HPR-80 腐蚀性气体分析质谱仪非常适用于分析腐蚀性气体,HF,HCl,HBr和卤代烃气体工艺产生的反应产物。
主要特点:
1、连接件电抛光工艺处理上一产品:LAS泄漏分析系统 在线质谱分析方法
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